精确控制抛光量：通过使用精度高的测量工具，如三坐标测量仪，在抛光前和抛光过程中对模具尺寸进行精确测量。可以制定详细的抛光工艺方案，明确每个阶段的抛光去除量。例如，对于高精度模具，采用分层抛光的方法，每次抛光去除的材料厚度控制在微米级，并且在每次抛光后进行测量，确保尺寸精度符合要求。
选择合适的抛光工具和工艺：根据模具的形状、尺寸和精度要求选择合适的抛光工具。对于复杂形状的模具，可使用软质抛光工具，如羊毛毡抛光轮，它可以更好地贴合曲面，减少因抛光工具与模具表面不贴合而导致的形状变形。同时，采用合适的抛光工艺，如对于精度要求高的模具，先进行粗抛光去除大部分的加工痕迹，然后再用精细抛光工具进行精抛光，确保在提高表面光洁度的同时不破坏模具的精度。
补偿抛光带来的变化：在模具设计阶段，可以考虑预留一定的抛光余量。例如，在模具的关键尺寸设计上，适当加大尺寸，以补偿抛光过程中可能出现的尺寸减小。并且在抛光后，根据实际情况进行必要的调整和修复。比如，对于因抛光而导致的尺寸偏差，可以通过电镀等方法进行尺寸补偿，或者通过局部研磨等方式对形状精度进行修复。